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產(chǎn)品分類-
產(chǎn)品型號(hào)
Zetium 礦物版 -
廠商性質(zhì)
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產(chǎn)品描述
Zetium 礦物版 X射線熒光光譜儀的設(shè)計(jì)適合在采礦流程的每一階段中進(jìn)行材料分析。 從勘探樣品到精礦、從礦石到尾礦，礦物版都可以在要求嚴(yán)苛的采礦環(huán)境中提供靈活性、分析性能和穩(wěn)定性。
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Epsilon 4廠商性質(zhì)
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555產(chǎn)品描述
Epsilon 4 X射線熒光光譜儀是一款多功能臺(tái)式 XRF 分析儀，廣泛用于從研發(fā)到流程控制等各個(gè)領(lǐng)域中需要從氟 (F) 到镅 (Am) 元素分析的行業(yè)細(xì)分市場(chǎng)。 Epsilon 4 將激發(fā)和檢測(cè)技術(shù)與成熟軟件和智能設(shè)計(jì)相結(jié)合，其分析性能更接近于功率更高的落地式 XRF 光譜儀。
產(chǎn)品型號(hào)
Epsilon Xflow廠商性質(zhì)
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587產(chǎn)品描述
通過使用 Epsilon Xflow X射線熒光光譜儀進(jìn)行在線液體分析，可以快速準(zhǔn)確地控制過程參數(shù)。 增強(qiáng)的法規(guī)和質(zhì)量規(guī)范推動(dòng)對(duì)持續(xù)工藝流程的需求。 Epsilon Xflow 提供的實(shí)時(shí)洞察能力讓您能夠更有效地管理您的生產(chǎn)工藝并降低運(yùn)營成本。
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Epsilon Xline廠商性質(zhì)
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907產(chǎn)品描述
Epsilon Xline X射線熒光光譜儀將我們優(yōu)良的能量色散 XRF技術(shù)與在線功能相結(jié)合。這種優(yōu)良的解決方案可在卷對(duì)卷 (R2R) 涂層工藝中實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)材料監(jiān)測(cè)和過程控制。直接分析可以持續(xù)優(yōu)化材料成分和負(fù)載，有助于最大限度地減少不合格生產(chǎn)并最大限度地提高成本效率。適應(yīng)性強(qiáng)的 Epsilon Xline 可以在各種表面和元素中提供精確和準(zhǔn)確的過程控制。
產(chǎn)品型號(hào)
Aeris廠商性質(zhì)
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651產(chǎn)品描述
Aeris 緊湊型X射線衍射儀。5 分鐘內(nèi)即可提供精確結(jié)果。此前只有大型落地式 xrd系統(tǒng)才能實(shí)現(xiàn)如此快速的高質(zhì)量數(shù)據(jù)采集。這款緊湊型 Aeris 外形小巧、功能強(qiáng)大，是同類產(chǎn)品中的創(chuàng)新者。